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低溫冷卻循環(huán)器泵

低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時間:2024-10-22

訪問次數(shù):3596

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品特點:低溫冷卻循環(huán)器泵廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備:降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備: 生物制藥??茖W(xué)實驗設(shè)備:分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

詳細資料

低溫冷卻循環(huán)器泵廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備:降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備: 生物制藥。科學(xué)實驗設(shè)備:分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
低溫冷卻循環(huán)器泵技術(shù)參數(shù):

 

型號

 ℃

溫度范圍

L/min bar

循環(huán)泵

電源

(kw) at (℃) 制冷量

加注冷媒

-20

-35

-55

DW-418

—40~30

20

0.7

220/380V

50/60HZ

1.2

0.4

 

R404A

R407C

 

DW-440

—40~30

20

0.7

2.7

0.75

 

DW-462

—40~30

35

1

3.8

1.1

 

DW-490

—40~30

35

1

5.5

1.5

 

DW-4A1

—40~30

35

1

7

2.1

 

DW-4A2

—40~30

80

1.5

14

4

 

DW-618

—60~—20

20

0.7

 

0.6

0.4

R404A

R23

R13

DW-630

—60~—20

20

0.7

 

1.1

0.6

DW-662

—60~—20

35

1

 

2

1.15

DW-6A1

—60~—20

35

1

 

3.5

2

DW-6A2

—60~—20

75

1.5

 

 

13

5., 8

 

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